每一批氧化釔粉末皆經 Malvern Mastersizer 雷射粒徑分析儀量測,數據透明、批次穩定,可依製程需求客製粒徑。
我們不做膨風的形容詞。純度、粒徑、批次一致性,全部可提供第三方檢測報告佐證。
在高潔淨度的半導體製程中,塗層材料的雜質會直接污染晶圓。5N 與 4N 之間差的那一個 9,就是良率的關鍵。
Plasma Spray 電漿噴塗於製程設備腔體內壁,抵抗電漿侵蝕、延長設備壽命,是氧化釔在半導體最核心的應用。
5N 超高純度、低雜質含量,適用對污染極度敏感的先進製程,避免金屬離子污染影響晶圓良率。
亦作為陶瓷燒結助劑、YSZ(釔安定氧化鋯)穩定劑、螢光粉原料,應用橫跨多個高值產業。
採購需要的資訊一次看完。實際規格可依製程需求客製。
| 化學式 | Y₂O₃ |
|---|---|
| 純度 | 5N(99.999%) ── 領先市場常見 4N |
| 外觀 | 白色無味粉末 |
| Dv(50) 中位粒徑 | 3.86 μm |
| 粒徑範圍 | Dv(10) 0.808 μm ~ Dv(90) 11.2 μm |
| 比表面積 | 3520 m²/kg |
| 粒徑客製 | 可依製程需求調整 |
| 檢測報告 | 附 Malvern 粒徑分析+純度分析報告 |
| 最小訂量 | 歡迎詢問,可依需求配合 |