半導體級稀土材料

5N 超高純度
氧化釔 Y₂O₃

99.999% 超高純度氧化釔粉末,純度領先台灣市場常見的 4N。附 Malvern 實測粒徑數據,半導體製程腔體電漿噴塗保護塗層專用。

純度等級對比 高一階純度
4N台灣市場常見 · 99.99%
5N谷韋提供 · 99.999%
Malvern 雷射粒徑分析・實測數據

不只說規格,附上實測報告

每一批氧化釔粉末皆經 Malvern Mastersizer 雷射粒徑分析儀量測,數據透明、批次穩定,可依製程需求客製粒徑。

3.86 μm
Dv(50) 中位粒徑
0.808 μm
Dv(10)
11.2 μm
Dv(90)
3520 m²/kg
比表面積

粒徑體積分布曲線

MALVERN MASTERSIZER v3.81
0.1 μm1 μm10 μm Dv(50) 3.86μm Dv(10) Dv(90)
分散方式:乾式 徑距 Span:2.69 量測日:2026/08
以上為實測樣本數據,實際規格可依製程需求客製,歡迎索取完整檢測報告。
品質可驗證

每一項數據,都有出處

我們不做膨風的形容詞。純度、粒徑、批次一致性,全部可提供第三方檢測報告佐證。

5N 純度99.999% 超高純度,低金屬雜質,附純度分析報告。
Malvern 粒徑Mastersizer 雷射粒徑分析儀實測,附完整分布曲線。
批次一致性乾式分散量測,粒徑分布集中,批次間穩定。
ISO 9001谷韋科技通過 ISO 9001 品質管理系統認證。
應用領域

為什麼半導體製程需要 5N 氧化釔

在高潔淨度的半導體製程中,塗層材料的雜質會直接污染晶圓。5N 與 4N 之間差的那一個 9,就是良率的關鍵。

電漿噴塗腔體塗層

Plasma Spray 電漿噴塗於製程設備腔體內壁,抵抗電漿侵蝕、延長設備壽命,是氧化釔在半導體最核心的應用。

高潔淨度製程

5N 超高純度、低雜質含量,適用對污染極度敏感的先進製程,避免金屬離子污染影響晶圓良率。

陶瓷與功能材料

亦作為陶瓷燒結助劑、YSZ(釔安定氧化鋯)穩定劑、螢光粉原料,應用橫跨多個高值產業。

規格速查

完整產品規格

採購需要的資訊一次看完。實際規格可依製程需求客製。

化學式Y₂O₃
純度5N(99.999%) ── 領先市場常見 4N
外觀白色無味粉末
Dv(50) 中位粒徑3.86 μm
粒徑範圍Dv(10) 0.808 μm ~ Dv(90) 11.2 μm
比表面積3520 m²/kg
粒徑客製可依製程需求調整
檢測報告附 Malvern 粒徑分析+純度分析報告
最小訂量歡迎詢問,可依需求配合

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告訴我們您需要的純度、粒徑與數量,我們將於 1 個工作天內回覆,並提供實測報告。

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